Bei der Reinigung von aus Kunststoff gefertigten Implantaten wird die quattroClean-Schneestrahlreinigung ebenfalls eingesetzt. (Bildquelle: istock.com/Belekekin)

Bei der Reinigung von aus Kunststoff gefertigten Implantaten wird die quattroClean-Schneestrahlreinigung ebenfalls eingesetzt. (Bildquelle: istock.com/Belekekin)

Gehäuse medizintechnischer Geräte werden ebenso aus Kunststoffen gefertigt wie Instrumente, Implantate und Hilfsmittel sowie Labordiagnostika für die Human-, Dental- und Tiermedizin. Die Herstellung dieser Produkte erfolgt in unterschiedlichen klassischen Fertigungsverfahren wie Extrusion, Spritzguss sowie Zerspanung und immer häufiger auch im industriellen 3D-Druck. Bei jedem dieser Verfahren verbleiben auf den Oberflächen Rückstände aus der Herstellung, beispielsweise Trennmittel, Partikel, Flittergrate und Stäube oder Restpulver. Je nach Risikoklasse, in welche Medizinprodukte einzustufen sind, ergeben sich durch diese Verunreinigungen unterschiedliche Schädigungspotenziale für Patienten. Und das auch, wenn sie mit dem Instrument oder Implantat sterilisiert wurden. Aber auch bei Erzeugnissen, von denen, wie bei Kunststoffgehäusen oder Diagnostika, kein direktes Risiko ausgeht, können filmische und partikuläre Kontaminationen nachfolgende Prozesse stören beziehungsweise das Laborergebnis verfälschen.

Dies verdeutlicht den Einfluss der Bauteilreinigung auf die Sicherheit, Qualität und Funktionalität des Produkts. Sie muss sicherstellen, dass produktspezifisch erforderliche Sauberkeitsanforderungen und biologische Verträglichkeit zuverlässig erzielt werden und es zu keiner produktbeeinträchtigenden Veränderung der Eigenschaften und Oberflächen kommt.

Die klassische nasschemische Endreinigung mit wässrigen Medien stößt hier oft an Grenzen – insbesondere bei Teilen mit komplexen Geometrien, filigranen Konturen und feinen Strukturen sowie mechatronischen Systemen mit beispielsweise MID (spritzgegossene Schaltungsträger).

Durch vier Effekte zu rückstandsfrei sauberen Oberflächen

Die patentierte Technologie mit Zweistoff-Ringdüse für den CO2- und den Druckluft-Mantelstrahl sorgt für eine konstante und homogene Reinigungsleistung. Ein Vereisen der Düse wird dadurch ebenfalls zuverlässig verhindert. (Bildquelle: ACP Systems)

Die patentierte Technologie mit Zweistoff-Ringdüse für den CO2- und den Druckluft-Mantelstrahl sorgt für eine konstante und homogene Reinigungsleistung. Ein Vereisen der Düse wird dadurch ebenfalls zuverlässig verhindert. (Bildquelle: ACP Systems)

Die Quattro-Clean-Schneestrahltechnologie der ACP Systems erfüllt diese Reinigungsaufgaben leistungsfähig, prozesssicher und wirtschaftlich. Das Verfahren nutzt flüssiges, unbegrenzt haltbares und nicht korrosives Kohlendioxid als Reinigungsmedium. Es entsteht als Nebenprodukt bei chemischen Prozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse und ist deshalb umweltneutral.

Wesentliche Komponente des Reinigungssystems ist eine verschleißfreie Zweistoff-Ringdüse. Durch diese wird das für medizinische Anwendungen aufbereitete Kohlendioxid geleitet. Es entspannt beim Austritt aus der Düse zu feinem CO2-Schnee, der von einem separaten, ringförmigen Druckluftmantelstrahl gebündelt und auf Überschallgeschwindigkeit beschleunigt wird. Die Technik gewährleistet auch in automatisierten Anwendungen eine konstante und homogene Reinigungsleistung.

Trifft der minus 78,5 °C kalte und gut fokussierbare Schnee-Druckluftstrahl auf die Oberfläche kommt es zu einer Kombination aus thermischem, mechanischem, Sublimations- und Lösemitteleffekt. Das Zusammenspiel dieser vier Wirkmechanismen entfernt partikuläre und filmische Verunreinigungen, wie Späne, Mikrograte, Staub, Abrieb, Trennmittel, Silikone und Schmauchspuren prozesssicher und reproduzierbar. Gleichzeitig wirkt die CO2-Schneestrahlreinigung bakteriostatisch.

Das kristalline Kohlendioxid geht während der Reinigung vollständig in den gasförmigen Zustand über, das Reinigungsgut ist daher sofort trocken. Abgelöste Verunreinigungen werden durch den Druckluftstrahl von der Bauteiloberfläche abgeführt und zusammen mit dem sublimierten Kohlendioxid aus dem Reinigungsmodul abgesaugt. Die Reinigung erfolgt materialschonend, so dass empfindliche und fein strukturierte Oberflächen ebenso behandelt werden können wie filigrane Strukturen, die beispielsweise additiv gefertigte Bauteile besitzen können.

Bei verschiedensten Aufgabenstellungen bewährt

Bei der Herstellung mikrofluidischer Lab-on-Chip-Produkte kann das Quattro-Clean-System zur gleichzeitigen Feinstentgratung und -reinigung von Kunststoffspritzgussteilen eingesetzt werden. (Bildquelle: ACP Systems)

Bei der Herstellung mikrofluidischer Lab-on-Chip-Produkte kann das Quattro-Clean-System zur gleichzeitigen Feinstentgratung und -reinigung von Kunststoffspritzgussteilen eingesetzt werden. (Bildquelle: ACP Systems)

Eingesetzt wird die Quattro-Clean-Technologie in der Medizintechnik für unterschiedlichste Aufgaben. Dazu zählt Reinigung von Kunststoffgehäusen vor dem Beschichten und Lackieren. Das Verfahren ersetzt hier die traditionell eingesetzte nasschemische Reinigung. Die CO2-Schneestrahlreinigung benötigt gegenüber einer wässrigen Reinigung eine geringere Produktionsfläche und spart Investitions- und Betriebskosten ein. Bei der Herstellung mikrofluidischer Lab-on-Chip-Systeme ermöglicht das Verfahren die Feinstentgratung und Reinigung von aus Kunststoff hergestellten, komplexen Spritzgussbauteilen. Ein weiterer Einsatzbereich ist unter anderem die Entfernung von Verunreinigungen aus Strukturen von additiv gefertigten Implantaten aus PEEK.

Kühlen und reinigen in einem Schritt

Das gleichzeitige Kühlen und Reinigung mit CO2 bei der spanenden Bearbeitung von PEEK lässt sich die Spanentstehung signifikant verringern und die Zerspangeschwindigkeit deutlich erhöhen. (Bildquelle: ACP Systems)

Das gleichzeitige Kühlen und Reinigung mit CO2 bei der spanenden Bearbeitung von PEEK lässt sich die Spanentstehung signifikant verringern und die Zerspangeschwindigkeit deutlich erhöhen. (Bildquelle: ACP Systems)

Der Hochleistungskunststoff ist auch Ausgangsmaterial von spanend hergestellten Implantaten und medizintechnischen Komponenten. Um die bei der Trockenzerspanung von PEEK entstehenden Späne und die daraus resultierende Nacharbeit für das Entgraten zu reduzieren, wird mit dem ACP-Verfahren während der Zerspanung selektiv gekühlt. Dies wirkt dem Spanentstehen so effektiv entgegen, dass das manuelle Entgraten unter dem Mikroskop komplett entfallen kann. Darüber hinaus lässt sich durch die selektive Kühlung mit dem Quattro-Clean-System die Zerspangeschwindigkeit erhöhen, woraus eine deutliche Produktivitätssteigerung resultiert.

Das Kühlen mit CO2-Schnee besitzt darüber hinaus das Potenzial, neue Anwendungen für PEEK zu eröffnen. Erste Versuche beim Schleifen des Kunststoffs haben ergeben, dass die gleichzeitige Kühlung eine Veränderung der Werkstoffeigenschaften ebenso verhindern kann wie die prozesszerstörende Ablagerung von Partikeln auf der Schleifscheibe.

Optimal an die Anwendung angepasste, validierbare Prozesse

Die Skalierbarkeit des Reinigungsverfahrens ermöglicht, es einfach und platzsparend an unterschiedliche Anwendungen und Bauteilgeometrien für eine ganzflächige oder partielle Reinigung anzupassen. Die Prozessentwicklung erfolgt im Technikum der ACP Systems. Dabei werden alle Prozessparameter wie Volumenströme für Druckluft und Kohlendioxid, Anzahl der Düsen, Strahlbereich und -zeit durch Versuche exakt an das jeweilige Bauteil, die Applikation, die Materialeigenschaften sowie die zu entfernenden Verunreinigungen angepasst. Sie können als teilespezifische Programme in der Anlagensteuerung hinterlegt werden.

Die Qualität des CO2-Schneestrahls lässt sich mit einem Sensorsystem kontinuierlich überwachen. Der ermittelte Wert wird mit dem definierten Prozessfenster abgeglichen und automatisch gespeichert. (Bildquelle: ACP Systems)

Die Qualität des CO2-Schneestrahls lässt sich mit einem Sensorsystem kontinuierlich überwachen. Der ermittelte Wert wird mit dem definierten Prozessfenster abgeglichen und automatisch gespeichert. (Bildquelle: ACP Systems)

Die Stabilität der Schneestrahldichte ist einer der entscheidenden Parameter für die gleichbleibende Reinigungswirkung und damit Qualität des Reinigungsprozesses. Diese Einflussgröße kann bei jeder einzelnen Düse während des Reinigungsprozesses mit einem innovativen Sensorsystem kontinuierlich überwacht werden. Es vergleicht den ermittelten Wert mit dem für das Bauteil in den Reinigungsversuchen definierten Reinigungsfenster, sodass ein unregelmäßiger, zu schwacher oder zu starker Schneestrahl sofort erkannt wird und nur im definierten Prozessfenster gereinigte Teile die Reinigungsstation verlassen. Gleichzeitig kann der an der Düse ermittelte Wert für das jeweilige Bauteil an eine übergeordnete Leitzentrale, in der alle Fertigungsdaten für ein Produkt hinterlegt sind, übermittelt und gespeichert werden. Dies ermöglicht nicht nur Aussagen, ob das Reinigen im definierten Fenster stattgefunden hat, sondern zum genauen Wert. Alle anderen Prozessparameter können für eine lückenlose Dokumentation und Nachverfolgbarkeit ebenfalls automatisch erfasst, gespeichert und an einen Leitrechner übergeben werden. Dies trägt nicht nur zu einer hohen Prozesssicherheit bei, sondern vereinfacht auch eine eventuell erforderliche Prozessvalidierung bei einer benannten Stelle.

Maßgeschneiderte Systemkonzeption – auch für reine Umgebungen

Für die Reinigung in reinen Umgebungen können die Anlagen entsprechend der erforderlichen Reinraumklasse ausgelegt und ausgestattet werden. (Bildquelle: ACP Systems)

Für die Reinigung in reinen Umgebungen können die Anlagen entsprechend der erforderlichen Reinraumklasse ausgelegt und ausgestattet werden. (Bildquelle: ACP Systems)

Die Anlagenkonzeption erfolgt entsprechend den kundenspezifischen Anforderungen mit auf Standard-Modulen basierenden Komponenten als manuelle, teil- und vollautomatisierte Quattro-Clean-Systeme. Standalone-Lösungen lassen sich dabei ebenso realisieren wie in Fertigungslinien und verkettete Produktionsumgebungen integrierte Anlagen.

Beim Betrieb von CO2-Anlagen in einer reinen Umgebung wird eine Aufbereitung für das flüssige Kohlendioxid und die Druckluft integriert. Luftzufuhr, Absaugung und Ausstattung, beispielsweise Komponenten für die Automatisierung und deren Platzierung, werden auf die entsprechende Reinraumklasse abgestimmt. Durch optimale Strömungsverhältnisse wird der schnelle und zuverlässige Abtransport entfernter Verunreinigungen sichergestellt. Die Anpassung der Anlage an die kundenspezifischen Reinheitsanforderungen und räumlichen Gegebenheiten erfolgt durch unterschiedliche Lösungen, beispielsweise als Clean-Machine-Ausführung oder zum Anbinden oder Einbinden in einen Reinraum.

Das breite Applikationsspektrum und die Möglichkeit, die Anlagen exakt an die jeweiligen Bauteilspezifikationen und Produktionsumgebungen anzupassen, ermöglichen eine prozesssichere und effiziente Reinigung medizintechnischer Produkte – auch unter der neuen Medical Devise Regulation (MDR).

 

Kontakt

ACP Systems, Ditzingen

info@acp-systems.com

 

 

Über den Autor

Doris Schulz

ist Inhaberin der Agentur Schulz, Presse, Text in Korntal.

Doris.schulz@pressetextschulz.de